Berührungslose Durchflusssensoren & Luftblasendetektoren
Für MEMS und die Halbleiterindustrie
In der Halbleiterindustrie spielen die kompakten Ultraschallsensoren von SONOTEC bei der Herstellung von Wafern eine große Rolle. Hier kommen in unterschiedlichen Prozessen des Nassverfahrens eine Vielzahl von abrasiven, anhaftenden, korrosiven und hochreinen Flüssigkeiten zum Einsatz. Die Sensoren haben dabei den enormen Vorteil, dass ihre Messung nicht-invasiv und nicht-intrusiv erfolgt und damit sowohl für die Durchflussmessung als auch für die Luftblasendetektion optimal geeignet sind.
Vorteile der berührungslosen Messung
- Berührungslose und kontaminationsfreie Überwachung der Prozesse
- Einsetzbar für eine Vielzahl von Medien
- Einfaches Einlegen des Schlauches
- Problemlose Nachrüstung der Anlagen
- Keine Ausfallzeiten der Maschinen bei Sensorwechseln
- Kein Leckagerisiko
- Kein Verschleiß
- Gesteigerte und verlässlichere Produktivität der Anlagen führt zu gesteigerter Ausbeute
Durchflussmessung & Luftblasendetektion in der Halbleiterindustrie
Wird eine Reinigungslösung zu niedrig oder zu hoch dosiert, werden zusätzliche Ressourcen notwendig, da der Reinigungsprozess wiederholt werden muss. Im ungünstigsten Fall werden die zu reinigenden Halbleiterscheiben unbrauchbar und ein bedeutender Wertverlust ist die Folge. Eine exakte Durchflussmessung ist daher entscheidend für eine effiziente Nutzung der Produktionsmittel.
Das Vorhandensein von Luftblasen in kritischen Prozessabläufen kann weitreichende Auswirkungen auf die Herstellung von Halbleiterscheiben haben. Bei der Verwendung von Fotolacken kann das Auftreten von Luftblasen zu einem Defekt der Wafer führen; beim Einsatz von Prozesskühlwasser zu einer Unterbrechung der Produktionsprozesse. Eine rechtzeitige Detektion von Luftblasen ist somit ausschlaggebend für das Erreichen der Produktionsziele.
Weitere Anwendungsbereiche berührungsloser Durchflusssensoren & Luftblasendetektoren
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