Durchflussmessung im CMP
Verbesserung der Präzision bei der chemisch-mechanischen Planarisierung mit SEMIFLOW® Clamp-On Sensoren
Die chemisch-mechanische Planarisierung (CMP) spielt eine Schlüsselrolle in der Halbleiterfertigung. Um beste Ergebnisse zu erzielen, ist höchste Genauigkeit beim Slurry-Management entscheidend. Daher ist bei der CMP eine effektive Durchflussmessung erforderlich,
Durchflussmessung beim chemisch-mechanischen Planarisieren / Polieren
Verbesserung der Präzision
Die Dosierung von Slurry erfordert Präzision, da selbst kleine Abweichungen zu ungleichmäßigem Materialabtrag und Defekten führen können. Berührungslose SEMIFLOW Durchflusssensoren regeln die Dosierung des Slurry und sorgen für eine gleichmäßige und einheitliche Verteilung. Dies wiederum fördert die Ebenheit der Oberfläche und minimiert den Ausschuss.
Durchflusssensoren zum Slurry Management
Beim chemisch-mechanischen Planarisieren oder Polieren (CMP) ist Perfektion das Ziel. Durchflusssensoren sind wichtige Instrumente, die zu einem präzisen Slurry-Management beitragen. Sie ermöglichen kontrollierte, zuverlässige und effiziente Prozesse, was ihre Bedeutung für die Erzielung von Ergebnissen höchster Qualität in Reinraum-Produktionsumgebungen unterstreicht.
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